На прошлой неделе Зеленоградский нанотехнологический центр (АО «ЗНТЦ») представил первую в России фотолитографическую установку для производства микросхем с разрешением 350 нм.
Установка принята государственной комиссией. Финальная стоимость контракта на разработку составила почти 1 млрд рублей.
В работе над установкой принимало участие белорусское ОАО «Планар», сохранившее советский опыт в производстве литографического оборудования.
Российский литограф имеет площадь рабочего поля 22×22 мм и максимальный диаметр обрабатываемых пластин 200 мм. В качестве источника излучения в установке использован твердотельный лазер, свет от которого проходит через колонну из 27 линз из кварцевого стекла.
Литограф собран в варианте без защитного корпуса, его эксплуатация требует специального микроклиматического кабинета.
В настоящее время «ЗНТЦ» занимается адаптацией литографа под нужды двух неназванных заказчиков. Запуск серийного производства с использованием новой установки может занять 1,5-2 года.
Попутно в «ЗНТЦ» ведутся работы по созданию литографического оборудования с разрешением 130 нм. Согласно плану, оно должно быть готово в 2026 году.
Внедрение техпроцесса с нормами 350 нм в мире происходило в середине 90-х годов. По этому техпроцессу выпускались процессоры Intel Pentium и AMD K5, а также видеокарты Nvidia Riva 128.
По информации https://mail.google.com/mail/u/0/#inbox/FMfcgzQZTzTSjHkkJBWlBBvXFvBLTCpm
Обозрение "Terra & Comp".
